V-NAND到底是个啥?三星970EVO Plus强悍性能的背后
当我们在聊固态硬盘的时候,我们到底在聊些什么?经历了十数年的行业发展后,固态硬盘的技术规范和产品形态上逐步实现了统一,各家产品的差异已然上升到了内部架构和核心组件方面的技术代差上了。
简单剖析,固态硬盘产品的内核无外乎三大组件,用于调控整体存储功能和特殊机制的“大脑”即主控芯片,产品内部制作成本最高、担当存储重任的闪存颗粒,以及部分产品上用于产品支撑的缓存颗粒。
至于重要性而言,一举打破存储行业格局,让固态硬盘走入千家万户的存储介质,即闪存颗粒部分,可以说是区别固态硬盘好坏的最重要的内核组件。今天,笔者就以业界知名的三星970EVO Plus为实例,简单聊下关于闪存颗粒的技术和功能演变。
01 关于NAND闪存:单位电荷数Bit的变迁
NAND闪存,按照业界一般的理解, 本质上是一种长寿命的非易失性(在断电情况下仍能保持所存储的数据信息)的存储器,其中非易失性的突出特点,使得这种基于通断电存储的介质能够长久的保存数据,最终使得NAND闪存颗粒走向了前台;其实,熟悉闪存的朋友,可能还听过另一个词,即Dram颗粒,即动态随机存取存储器,同样是基于通断电的特性,只不过DRAM芯片的每次存储数据的过程中需要对于存储信息不停的刷新,无法实现长久存储,因而错过了这次“C位出道”的时机。
三星原厂NAND闪存颗粒
NAND闪存工作的原理是通过单位NAND内部电荷数Bit的通电和放电,实现对数据的存储。基于无机械结构的电荷存储优势,NAND闪存技术能够提供包括高性能、稳定、耐摔耐磕碰、一体成型故障率低等多种特点,迅速成为了各家存储厂商研发的重点。
因而,为了进一步提升NAND闪存容量,满足用户对于大容量存储的需求,在以三星、东芝、Intel等领先的NAND原厂推进下,研发出了不同电荷数Bit的多种NAND颗粒,即为SLC(1bit)、MLC(2bit)、TLC(3bit)、QLC(4bit)以及处于实验阶段即将量产的PLC(5bit)等类型。
不同颗粒类型的bit数分布
可随着单位电荷数Bit的堆叠,带来了两个后果,一是单位电荷Bit的增加对于半导体工艺制程的要求越来越高,从50nm制程一路升级到14/15/16nm制程,半导体制程工艺越来越无法满足更多单位电荷数Bit的堆叠了;二是单位电荷数Bit的堆叠,会在狭小的NAND闪存内部产生大量的干扰电流,严重影响闪存产品的性能和寿命。
02 三星V-NAND技术:从平面到垂直的创新性探索
为了解决单位堆叠的带来的电荷干扰问题以及半导体工艺的瓶颈,三星创新性的提出了在原有制程的基础上将NAND闪存以3D堆叠的形式,封装在NAND闪存之中,一方面解决了在平面的狭小空间内多个电荷数排列产生的电子干扰问题,保证了产品的质量和性能;
全球首款V-NAND技术产品
更为重要的是,解决了工艺制程无法推进容量提升的瓶颈,用3D堆叠替代2D平面排列,让NAND闪存以垂直的形式进行排列,进而提升了总体的容量。
V-NAND和普通2D NAND
朴素的理解就是,此前的NAND闪存就像在单位面积的地基上盖平房,平房的容积是恒定的,要想提升入住人口,只能无下限的降低单位容积率,其后果就是制造工艺和电磁干扰;
而V-NAND技术诞生之后,2D的平房变成了3D垂直的楼房,理论上只要高度不限制,单位面积的地基上的可利用容积几乎等同于无限,即避免了制程工艺的瓶颈又解决了电磁干扰的问题。
01 V-NAND技术是三星970EVO Plus强劲性能的有力支撑
三星V-NAND技术从2013年引入市场,便引发了全行业的关注,从初代的32层(即在单位面积上的堆叠层数)到后续的64层,直到9X层,根据公开消息,三星V-NAND技术或将提升到200+层堆叠,最大限度的提升单位闪存的利用率。
而笔者手中这款三星970EVO Plus便是采用三星全新V-NAND技术研发的旗舰级产品,基于V-NANDND技术在容量和稳定性上巨大优势,搭配着三星自研的Phoenix主控,使得三星970EVO Plus的性能实现了超越。
根据官方提供的数据,三星970EVO Plus最大读取性能达到了3500MB/S,最大写入性能也达到了3300MB/S,几乎达到了消费级固态硬盘的巅峰水准。作为一款推出了数年的旗舰级固态硬盘,在即将踏入存储新纪元的当下,依旧没有任何一款同级别的PCIE3.0固态能够在性能上实现对970EVO Plus的绝对超越。
实测性能
这背后的原因,无外乎三星在V-NAND技术上的近十年的积累,以及在此基础上进行的主控配对和优化。
多说一句,随着PCIE4.0时代的来临,三星也将在新世代推出旗舰级980PRO固态硬盘,进而延续PCIE3.0时代的行业地位,可以预见的是,980PRO固态硬盘依旧会在V-NAND堆叠、主控性能方面实现大跨越的升级,至于三星970EVO Plus则还是会成为PCIE3.0世代下的王者存在。
三星开始量产第九代QLC V-NAND闪存芯片
三星已开始量产用于下一代大容量固态硬盘的新型 QLC V-NAND 芯片。该制造商在官方博客中称,其第九代 QLC V-NAND 结合了人工智能时代的"多项突破性技术",在密度提高、容量增大、速度提升和能耗降低等方面实现了多项改进。
继2024 年 4 月开始生产的第九代 TLC V-NAND 内存之后,三星又推出了新的 1Tb quad-level cell (QLC) V-NAND 芯片。三星表示,新的 QLC 芯片将"满足人工智能时代的需求",尤其是在企业固态硬盘市场。三星公司闪存产品与技术执行 IP SungHoi Hur 就该公司下一代 QLC V-NAND 内存芯片的推出发表了以下看法:
QLC 第 9 代 V-NAND 的成功量产仅比 TLC 版本晚四个月,这使我们能够提供满足人工智能时代需求的全系列先进固态硬盘解决方案。随着企业级固态硬盘市场的快速增长和人工智能应用需求的不断增长,我们将继续通过我们的 QLC 和 TLC 第 9 代 V-NAND 巩固我们在该细分市场的领导地位。
得益于三星的沟道孔蚀刻技术,第九代四级单元的密度比上一代 QLC V-NAND 芯片高出 86%。三星还优化了各层单元特性,使数据保留性能提高了约 20%。最后,由于采用了预测和控制存储单元状态的预测程序技术,芯片的输入/输出速度提高了约 60%。
至于功耗这一移动设备的关键特性,三星声称,由于采用了低功耗设计并降低了电压要求,读取和写入能耗分别降低了 30% 和 50%。
虽然最初的重点是企业市场,但三星还计划将第 9 代 QLC V-NAND 存储器芯片的应用扩展到消费类产品,如大容量固态硬盘和用于现代智能手机的 UFS(通用闪存)。
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